鋁基板樹脂塞孔深圳廠家
鋁基板樹脂塞孔是因為制程BGA零件,因為傳統(tǒng)的BGA(焊球陣列封裝)可能會在PAD與PAD間做VIA到背面去走線,但是若BGA即焊球陣列封裝過密導致VIA走不出去時,就可以直接從PAD鉆孔做via到別層去走線,再將孔用樹脂填平鍍銅變成PAD,也就是俗稱的VIP制程(via in pad),若只是在PAD上做via而沒有用樹脂塞孔,就容易造成漏錫導致背面短路以及正面的空焊。
鋁基板樹脂塞孔的制程包括鉆孔、電鍍、塞孔、烘烤、研磨,鉆孔后將孔鍍通,接著再塞樹脂烘烤,最后就是研磨將之磨平,磨平后的樹脂因為不含銅,所以還要再度一層銅上去將它變成PAD,這些制程都是在原本鋁基板鉆孔制程前做的,也就是先將要塞孔的孔處理好,然后再鉆其他孔,照原本正常的制程走。
塞孔若沒有塞好,孔內(nèi)有氣泡時,因為氣泡容易吸濕,板子再過錫爐時就可能會爆板,不過塞孔的過程中若孔內(nèi)有氣泡,烘烤時氣泡就會將樹脂擠出,造成一邊凹陷一邊突出的情況,此時可以將不良品檢出,而有氣泡的板子也不見得會爆板,因為爆板的主因是濕氣,所以若是剛出廠的板子或板子在上件時有經(jīng)過烘烤,一般而言也不會造成爆板。
鋁基板樹脂塞孔深圳廠家外層無樹脂塞孔流程:
1、外層制作滿足負片要求,且通孔厚徑比≤6:1。
負片要求需要滿足的條件為:線寬/線隙足夠大、最大PTH孔小于干膜最大封孔能力、板厚小于負片要求的最大板厚等。并且沒有特殊要求的板,特殊流程的板包括:局部電金板、電鍍鎳金板、半孔板、印制插頭板、無環(huán)PTH孔、有PTH槽孔的板等。
內(nèi)層的制作→壓合→棕化→激光鉆孔→退棕化→外層鉆孔→沉銅→整板填孔電鍍→切片分析→外層圖形→外層酸性蝕刻→外層AOI→后續(xù)正常流程。
2、外層制作滿足負片要求,通孔厚徑比>6:1。
由于通孔厚徑比>6:1,使用整板填孔電鍍無滿足通孔孔銅厚度的要求,整板填孔電鍍后,需要使用普通的電鍍線在進行一次板電將通孔孔銅鍍到要求的厚度,具體的流程如下:
內(nèi)層的制作→壓合→棕化→激光鉆孔→退棕化→外層鉆孔→沉銅→整板填孔電鍍→全板電鍍→切片分析→外層圖形→外層酸性蝕刻→后續(xù)正常流程。
3、外層不滿足負片要求,線寬/線隙≥a,且外層通孔厚徑比≤6:1。
內(nèi)層的制作→壓合→棕化→激光鉆孔→退棕化→外層鉆孔→沉銅→整板填孔電鍍→切片分析→外層圖形→圖形電鍍→外層堿性蝕刻→外層AOI→后續(xù)正常流程。
4、外層不滿足負片要求,線寬/線隙<a;或線寬/線隙≥a,通孔厚徑比>6:1。
內(nèi)層的制作→壓合→棕化→激光鉆孔→退棕化→沉銅→整板填孔電鍍→切片分析→減銅→外層鉆孔→沉銅(2)→全板電鍍→外層圖形→圖形電鍍→外層堿性蝕刻→外層AOI→后續(xù)正常流程。
鋁基板樹脂塞孔的制程包括鉆孔、電鍍、塞孔、烘烤、研磨,鉆孔后將孔鍍通,接著再塞樹脂烘烤,最后就是研磨將之磨平,磨平后的樹脂因為不含銅,所以還要再度一層銅上去將它變成PAD,這些制程都是在原本鋁基板鉆孔制程前做的,也就是先將要塞孔的孔處理好,然后再鉆其他孔,照原本正常的制程走。
塞孔若沒有塞好,孔內(nèi)有氣泡時,因為氣泡容易吸濕,板子再過錫爐時就可能會爆板,不過塞孔的過程中若孔內(nèi)有氣泡,烘烤時氣泡就會將樹脂擠出,造成一邊凹陷一邊突出的情況,此時可以將不良品檢出,而有氣泡的板子也不見得會爆板,因為爆板的主因是濕氣,所以若是剛出廠的板子或板子在上件時有經(jīng)過烘烤,一般而言也不會造成爆板。
1、外層制作滿足負片要求,且通孔厚徑比≤6:1。
負片要求需要滿足的條件為:線寬/線隙足夠大、最大PTH孔小于干膜最大封孔能力、板厚小于負片要求的最大板厚等。并且沒有特殊要求的板,特殊流程的板包括:局部電金板、電鍍鎳金板、半孔板、印制插頭板、無環(huán)PTH孔、有PTH槽孔的板等。
內(nèi)層的制作→壓合→棕化→激光鉆孔→退棕化→外層鉆孔→沉銅→整板填孔電鍍→切片分析→外層圖形→外層酸性蝕刻→外層AOI→后續(xù)正常流程。
2、外層制作滿足負片要求,通孔厚徑比>6:1。
由于通孔厚徑比>6:1,使用整板填孔電鍍無滿足通孔孔銅厚度的要求,整板填孔電鍍后,需要使用普通的電鍍線在進行一次板電將通孔孔銅鍍到要求的厚度,具體的流程如下:
內(nèi)層的制作→壓合→棕化→激光鉆孔→退棕化→外層鉆孔→沉銅→整板填孔電鍍→全板電鍍→切片分析→外層圖形→外層酸性蝕刻→后續(xù)正常流程。
3、外層不滿足負片要求,線寬/線隙≥a,且外層通孔厚徑比≤6:1。
內(nèi)層的制作→壓合→棕化→激光鉆孔→退棕化→外層鉆孔→沉銅→整板填孔電鍍→切片分析→外層圖形→圖形電鍍→外層堿性蝕刻→外層AOI→后續(xù)正常流程。
4、外層不滿足負片要求,線寬/線隙<a;或線寬/線隙≥a,通孔厚徑比>6:1。
內(nèi)層的制作→壓合→棕化→激光鉆孔→退棕化→沉銅→整板填孔電鍍→切片分析→減銅→外層鉆孔→沉銅(2)→全板電鍍→外層圖形→圖形電鍍→外層堿性蝕刻→外層AOI→后續(xù)正常流程。